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洁净室内温湿度和气压如何控制【东鑫净化】

文章出处 : https://www.dgdongxin.com 作者 : 东鑫净化 人气 : 94 发表时间:

1.洁净室内温湿度的控制。

洁净空间的温湿度主要根据工艺要求确定,但在满足工艺要求的情况下,应考虑人的舒适性。随着空气清洁度要求的提高,工艺对温湿度的要求越来越严格。

未来将列出具体工艺的温度要求,但作为一般原则,由于加工精度越来越精细,对温度波动范围的要求越来越小。例如,在大型集成电路的光刻曝光过程中,对玻璃和硅片的热膨胀系数的要求越来越小。

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硅片直径100um,温度升高1度,导致0.24um线性膨胀。因此,必须有±0.1度恒温,湿度值一般较低,因为出汗会污染产品,特别是害怕钠的半导体车间,不得超过25度。

湿度过高会导致更多的问题。当相对湿度超过55%时,冷却水管壁会结露。如果发生在精密装置或电路中,会造成各种事故。当相对湿度为50%时,很容易生锈。此外,当湿度过高时,附着在硅片表面的灰尘会通过空气中的水分子化学吸附在表面,难以去除。

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相对湿度越高,附着力越难去除。但当相对湿度低于30%时,由于静电的作用,颗粒容易吸附在表面,大量半导体器件容易穿透。硅片生产的温度范围为35-45%。

2.洁净室气压规定。

对于大多数清洁空间,为了防止外部污染,内部压力(静压)高于外部压力(静压)。压差的维护一般应符合以下原则:

1.洁净空间的压力高于非洁净空间。

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2.清洁度高的空间压力高于相邻清洁度低的空间压力。

3.相通洁净室之间的门应开到洁净度高的房间。

压差的维持取决于新风量,可以补偿压差下间隙泄漏的风量。因此,压差的物理意义是通过洁净室各种间隙泄漏(或渗透)的阻力。


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